2018年5月23日，日本專利法修改案通過，該修改法案于5月30日公布。此次改法內(nèi)容，包括：

　　（1）不喪失新穎性寬限期由不喪失新穎性的公開之日的6個月延長到12個月；

　　（2）對于中小企業(yè)（可能不適用于中國企業(yè)），請求實審費以及第1至10年年費減半；

　　（3）引入所謂的“相機內(nèi)”（in-camera）程序來評估一份文件對于在一件專利侵權訴訟案件中證明侵權行為是否有必要。若認為必要，則法院可以要求提交。

　　修改法案中第1款有關不喪失新穎性寬限期的延長將于2018年6月9日生效實施，適用于不喪失新穎性的公開發(fā)生在2017年12月9日當天或之后的專利申請。其他款將公布日起的1年半內(nèi)實施，據(jù)推測可能會在2019年4月1日實施。